波兰版画交流展

  • >展览时间:2019-09-06 - 2019-10-07
  • >展览地点:中央美术学院美术院三层A展厅
  • >开幕时间:2019-09-06 16:00
  • >主办机构: 中央美术学院
  • >总策展人: 王华祥 Krzysztof Lukasz Butowaki
  • >协办单位: 国际学院版画联盟 中国美术家协会版画艺委会 克拉科夫美术学院 格但斯克美术学院

展览前言

东观西望话波兰——写在波兰版画交流展之前

2019年9月7日下午,由中央美术学院主办,协同国际学院版画联盟、中国美术家协会版画艺委会、克拉科夫美术学院、格但斯克美术学院一起开展的“‘1+1’波兰版画交流展”开幕式在中央美术学院美术院三层A展厅举行。

波兰是一个版画大国,从政府到大学,版画都受到高度重视。“波兰国际版画双年展”在全球都有相当的知名度。波兰地处东欧,是西方和东方之间的中间地带,因此,它的文化和民族性格也自然会带出相应的特点。中国对欧美的艺术了解的比较多,甚至于可以说:中国的欧美化程度已经非常高了。然而当我们发展到一个比较高的程度时,就有了在主流文化的基础上另避蹊径的愿望。世界上相对封闭和边沿化的地区,还没有完全被“当代艺术”辗压,他们或许保存了一些古老而珍贵的东西,这或许是我们创造新艺术所需要的另一些宝藏。基于这种观念。我去年率队到波兰办展交流。先是在格但斯克美术学院,后又到克拉科夫美术学院。波兰的美术比我想象的洋气和现代。也比常见的欧美包容。传统和当代是打通的,生活与艺术是平行一体的。这与中国不同。中国的城乡差别很大,高端的专业从业者和普通人的距离很大,艺术和民众的生活是分离的(大城市除外)。中国的发展很快。在科技与艺术领域的某些方面,已经进入到国际前沿的梯队。但若要继续发展前行,就必须不停的寻找新的资源。向历史做深度的开掘,向国际做宽度的拓展。这次进引进格但斯克和克拉克夫两所大学的版画展览,就是基于上面的考量。我相信展览一定会带给中国观众耳目一新的感受。会给中央美术学院和中国的版画同行带来启示。并会增进两国间人民的好感。

中央美术学院造型学院副院长、版画系主任 王华祥

2019年6月18日于万圣谷美术馆




克拉科夫美术学院平面艺术学院艺术家作品展览

现在,在中央美术学院美术馆这个宜人的空间里,有20位来自克拉科夫美术学院平面艺术学院的艺术家(也是我系讲师)的作品正在展出。

这次展览并非按照任何显而易见的主题、意识形态或形式标准而组织。所有作品均由作者们亲自挑选,充分展现他们的个人创作风格。而这些作品之所以能够如此和谐地呈现在这,正是因为它们创作背后的共同语境。如果这里的“语境”理解为平面艺术,那么它们只是在更广阔的文化领域中发挥媒介作用,同时经受着源源不断的变化和转型浪潮的影响。

在过去的二十年间,数字媒介的主导地位一直是影响视觉文化的最重要因素。它们成为分属各种视觉形态的图像的主要载体和存储地,其中,最重要的当属平面艺术。于是,它们在全球范围内越来越常见,同时也显得琐碎起来。不论有意无意,我们成为了这次空前的图像感知空间拓宽浪潮的见证者和参与者。

视觉形态的普遍性和优势与文本角色的显著淡化密切相关,文本正在逐渐被视觉语言所替代,而图像创作也越来越多地发生在虚拟空间而非现实世界,继而又传递到电脑网络上。得益于科技的进步和普及,有时上述过程也会逆转过来,即数字图像转化到现实世界。但是,当前一个较为明显的趋势是以上两种现实的结合,二者同样重要,不分主次。

本次展览展出的作品中,一部分源自虚拟,一部分影射虚拟,其他的则全部属于这个体系。当然,仍然有许多作品完全保持在模拟世界中。毫无疑问,这些作品相遇在同一个物理空间且均为实物。这是因为它们的根基,即它们的物理载体。总而言之,这些都是画在或印在纸上的图像。

虽然对数字文化的影响存在着各种反对的声音,但纸张使得这些作品能够从艺术家们的脑海里变为现实,而不再只是一种模糊的感觉。纸张不仅仅是所有平面和绘画媒介的具化形式,如果没有造纸术这一伟大的中国发明及其多样化的应用,我们深知,世界文化必不复存在,今天这些作品也就不可能出现在大家眼前。因此,我们的艺术品在北京中央美院的这次展览,也可看作一种将文化交流可视化的象征性连接。

 

克拉科夫美术学院平面艺术学院院长、副教授 dr hab. Tomasz Daniec




亲爱的朋友们,艺术家们,

我谨代表格但斯克美术学院,衷心感谢各位将格但斯克美术学院平面艺术系的艺术家/老师们不远万里从波兰邀请到北京。

去年,我们有幸在格但斯克美术学院内举办了贵校的展览。中国艺术家的作品一经展出便收到了观众的热烈的反响,同时也收获了艺术评论圈的极高评价。不计其数的观众,不仅仅限于波兰本地,通过展览了解了中国当代平面艺术的最高境界。

得益于您方的邀请,我们的“回访”也很快开始了。两所院校之间能有如此丰硕的艺术交流成果,我感到无比满足和欣慰。通过这样的机会,我们加深了彼此之间的理解,也了解了两种文化各自的精彩之处,这为我们将来在艺术文化领域的合作创造了一个极佳的氛围——文化和艺术,正是我们当代人最通用的语言。

我相信,更多令人兴奋的时刻还在未来等着我们。

格但斯克美术学院院长  dr hab. Krzysztof Polkowski




尊敬的女士们,先生们,

今天,我们为您呈现的是来自格但斯克美术学院平面艺术系教师们的作品展。我们系有传统版画工艺工作室,包括平板印刷,油毡浮雕,凹雕,绢印等,有一个动画工作室,有专攻艺术形象数字创作的工作室,还有教授平面艺术基础知识的工作室。我希望,我校这种创作和文化的多元性能使这次展览以及您手中所拿的画册对您来说更具价值。

简单来说,这次展览的源头是一次从格但斯克到比得哥什观看张敏洁教授展览的自发之旅。那次观展后,我们在格但斯克美术学院的艺术品库举办了名为“拾珍之旅——中国当代版画邀请展”的展览,展出中国艺术家们的作品,之后的延续便是在中央美术学院美术馆的“1+1”展览。

此次展览能够成功举办,我感到无比开心和自豪。在此,我想向所有辛苦付出的人们表示感谢:张敏洁教授,王华祥教授,苏新平教授,dr hab. Krzysztof Polkowski院长,还有所有组织此次展览的工作人员,感谢你们。

平面艺术系副主任、波兰方策展人  Dr Łukasz Butowski


东观西望话波兰——写在波兰版画交流展之前

2019年9月7日下午,由中央美术学院主办,协同国际学院版画联盟、中国美术家协会版画艺委会、克拉科夫美术学院、格但斯克美术学院一起开展的“‘1+1’波兰版画交流展”开幕式在中央美术学院美术院三层A展厅举行。

波兰是一个版画大国,从政府到大学,版画都受到高度重视。“波兰国际版画双年展”在全球都有相当的知名度。波兰地处东欧,是西方和东方之间的中间地带,因此,它的文化和民族性格也自然会带出相应的特点。中国对欧美的艺术了解的比较多,甚至于可以说:中国的欧美化程度已经非常高了。然而当我们发展到一个比较高的程度时,就有了在主流文化的基础上另避蹊径的愿望。世界上相对封闭和边沿化的地区,还没有完全被“当代艺术”辗压,他们或许保存了一些古老而珍贵的东西,这或许是我们创造新艺术所需要的另一些宝藏。基于这种观念。我去年率队到波兰办展交流。先是在格但斯克美术学院,后又到克拉科夫美术学院。波兰的美术比我想象的洋气和现代。也比常见的欧美包容。传统和当代是打通的,生活与艺术是平行一体的。这与中国不同。中国的城乡差别很大,高端的专业从业者和普通人的距离很大,艺术和民众的生活是分离的(大城市除外)。中国的发展很快。在科技与艺术领域的某些方面,已经进入到国际前沿的梯队。但若要继续发展前行,就必须不停的寻找新的资源。向历史做深度的开掘,向国际做宽度的拓展。这次进引进格但斯克和克拉克夫两所大学的版画展览,就是基于上面的考量。我相信展览一定会带给中国观众耳目一新的感受。会给中央美术学院和中国的版画同行带来启示。并会增进两国间人民的好感。

中央美术学院造型学院副院长、版画系主任 王华祥

2019年6月18日于万圣谷美术馆




克拉科夫美术学院平面艺术学院艺术家作品展览

现在,在中央美术学院美术馆这个宜人的空间里,有20位来自克拉科夫美术学院平面艺术学院的艺术家(也是我系讲师)的作品正在展出。

这次展览并非按照任何显而易见的主题、意识形态或形式标准而组织。所有作品均由作者们亲自挑选,充分展现他们的个人创作风格。而这些作品之所以能够如此和谐地呈现在这,正是因为它们创作背后的共同语境。如果这里的“语境”理解为平面艺术,那么它们只是在更广阔的文化领域中发挥媒介作用,同时经受着源源不断的变化和转型浪潮的影响。

在过去的二十年间,数字媒介的主导地位一直是影响视觉文化的最重要因素。它们成为分属各种视觉形态的图像的主要载体和存储地,其中,最重要的当属平面艺术。于是,它们在全球范围内越来越常见,同时也显得琐碎起来。不论有意无意,我们成为了这次空前的图像感知空间拓宽浪潮的见证者和参与者。

视觉形态的普遍性和优势与文本角色的显著淡化密切相关,文本正在逐渐被视觉语言所替代,而图像创作也越来越多地发生在虚拟空间而非现实世界,继而又传递到电脑网络上。得益于科技的进步和普及,有时上述过程也会逆转过来,即数字图像转化到现实世界。但是,当前一个较为明显的趋势是以上两种现实的结合,二者同样重要,不分主次。

本次展览展出的作品中,一部分源自虚拟,一部分影射虚拟,其他的则全部属于这个体系。当然,仍然有许多作品完全保持在模拟世界中。毫无疑问,这些作品相遇在同一个物理空间且均为实物。这是因为它们的根基,即它们的物理载体。总而言之,这些都是画在或印在纸上的图像。

虽然对数字文化的影响存在着各种反对的声音,但纸张使得这些作品能够从艺术家们的脑海里变为现实,而不再只是一种模糊的感觉。纸张不仅仅是所有平面和绘画媒介的具化形式,如果没有造纸术这一伟大的中国发明及其多样化的应用,我们深知,世界文化必不复存在,今天这些作品也就不可能出现在大家眼前。因此,我们的艺术品在北京中央美院的这次展览,也可看作一种将文化交流可视化的象征性连接。

 

克拉科夫美术学院平面艺术学院院长、副教授 dr hab. Tomasz Daniec




亲爱的朋友们,艺术家们,

我谨代表格但斯克美术学院,衷心感谢各位将格但斯克美术学院平面艺术系的艺术家/老师们不远万里从波兰邀请到北京。

去年,我们有幸在格但斯克美术学院内举办了贵校的展览。中国艺术家的作品一经展出便收到了观众的热烈的反响,同时也收获了艺术评论圈的极高评价。不计其数的观众,不仅仅限于波兰本地,通过展览了解了中国当代平面艺术的最高境界。

得益于您方的邀请,我们的“回访”也很快开始了。两所院校之间能有如此丰硕的艺术交流成果,我感到无比满足和欣慰。通过这样的机会,我们加深了彼此之间的理解,也了解了两种文化各自的精彩之处,这为我们将来在艺术文化领域的合作创造了一个极佳的氛围——文化和艺术,正是我们当代人最通用的语言。

我相信,更多令人兴奋的时刻还在未来等着我们。

格但斯克美术学院院长  dr hab. Krzysztof Polkowski




尊敬的女士们,先生们,

今天,我们为您呈现的是来自格但斯克美术学院平面艺术系教师们的作品展。我们系有传统版画工艺工作室,包括平板印刷,油毡浮雕,凹雕,绢印等,有一个动画工作室,有专攻艺术形象数字创作的工作室,还有教授平面艺术基础知识的工作室。我希望,我校这种创作和文化的多元性能使这次展览以及您手中所拿的画册对您来说更具价值。

简单来说,这次展览的源头是一次从格但斯克到比得哥什观看张敏洁教授展览的自发之旅。那次观展后,我们在格但斯克美术学院的艺术品库举办了名为“拾珍之旅——中国当代版画邀请展”的展览,展出中国艺术家们的作品,之后的延续便是在中央美术学院美术馆的“1+1”展览。

此次展览能够成功举办,我感到无比开心和自豪。在此,我想向所有辛苦付出的人们表示感谢:张敏洁教授,王华祥教授,苏新平教授,dr hab. Krzysztof Polkowski院长,还有所有组织此次展览的工作人员,感谢你们。

平面艺术系副主任、波兰方策展人  Dr Łukasz Butowski


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中央美术学院美术馆出版授权协议书

本人完全同意《中央美术学院美术馆》(以下简称“CAFAM”),愿意将本人参与中央美术学院美术馆公共教育部组织的公益性活动(包括美术馆会员活动)的涉及本人的图像、照片、文字、著作、活动成果(如参与工作坊创作的作品)提交中央美术学院用作发表、出版。中央美术学院可以以电子、网络及其它数字媒体形式公开出版,并同意编入《中国知识资源总库》《中央美术学院资料库》《中央美术学院美术馆资料库》等相关资料、文献、档案机构和平台,在中央美术学院中使用和在互联网上传播,同意按相关“章程”规定享受相关权益。

中央美术学院美术馆活动安全免责协议书

第一条

本次活动公平公正、自愿参加与退出、风险与责任自负的原则。但活动有风险,参加者应有必要的风险意识。

第二条

参加本次活动者必须遵守中华人民共和国的相关法律、法规,必须遵循道德和社会公德规范,并应该具备以人为本、团结友爱、互相帮助和助人为乐的良好品质。

第三条

参加本次活动人员应该是成年人(具有完全民事行为能力的人,18周岁以上)未成年人必须在成年人的陪同下参观。

第四条

参加活动者在此次活动期间的人身安全责任自负。鼓励参加者自行购买人身安全保险。活动中一旦出现事故,活动中任何非事故当事人及美术馆将不承担人身事故的任何责任,但有互相援助的义务。参加活动的成员应当积极主动的组织实施救援工作,但对事故本身不承担任何法律责任和经济责任。参加本次活动者的人身安全不负有民事及相关连带责任。

第五条

参加活动者在此次活动期间应主动遵守美术馆活动秩序、维护美术馆场地及展示、展览、馆藏艺术作品及衍生品的安全。活动中一旦因个人原因造成美术馆场地、空间、艺术品、衍生品等受到不同程度的损失、破坏。活动中任何非事故当事人及美术馆将不承担相应的责任与损失,应由参与活动者根据相应的法律条文、组织规定进行协商和赔偿。并追究相应的法律责任和经济责任。

第六条

参与活动者在参与活动时应当在美术馆工作人员及活动导师、教师指导下进行,并正确的使用活动中所涉及到的绘画工具、创作材料及配套设备、设施,若参与者因个人原因在使用相应绘画工具、创作材料及配套设备、设施造成个人受伤、伤害他人及造成相应工具、材料、设备或设施的故障或损坏。参与活动者应当承当相应的全部责任,并主动赔偿相应的经济损失。活动中任何非事故当事人及美术馆将不承担人身事故的任何责任。

中央美术学院美术馆肖像权许可使用协议

根据《中华人民共和国广告法》、《中华人民共和国民法通则》以及 最高人民法院关于贯彻执行 《中华人民共和国民法通则》若干问题的意见(试行)>的有关规定,为明确肖像许可方(甲方)和使用方(乙方)的权利义务关系,经双方友好协商,甲乙双方就带有甲方肖像的作品的使用达成如下一致协议:

一、 一般约定

(1)、甲方为本协议中的肖像权人,自愿将自己的肖像权许可乙方作符合本协议约定和法律规定的用途。

(2)、乙方中央美术学院美术馆是一所具有标志性、专业性、国际化的现代公共美术馆。中央美术学院美术馆与时代同行,努力塑造一个开放、自由、学术的空间氛围,竭诚与各单位、企业、机构、艺术家和观众进行良好互动。以学院的学术研究为基础,积极策划国际、国内多视角、多领域的展览、论坛及公共教育活动,为美院师生、中外艺术家以及社会公众提供一个交流、学习、展示的平台。作为一家公益性单位,其开展的公共教育活动以学术性和公益性为主。

(3)、乙方为甲方拍摄中央美术学院公共教育部所有公教活动。

二、拍摄内容、使用形式、使用地域范围

(1)、拍摄内容 乙方拍摄的带有甲方肖像的作品内容包括:①中央美术学院美术馆②中央美术学院校园内○3由中央美术学院公共教育部策划或执行的一切活动。

(2)、使用形式 用于中央美术学院图书出版、销售附带光盘及宣传资料。

(3)、使用地域范围

适用地域范围包括国内和国外。

使用肖像的媒介限于不损害甲方肖像权的任何媒介(如杂志、网络等)。

三、肖像权使用期限

永久使用。

四、许可使用费用

带有甲方肖像作品的拍摄费用由乙方承担。

乙方于拍摄完带有甲方肖像的作品无需支付甲方任何费用。

附则

(1)、本协议未尽事宜,经双方友好协商后可作为本协议的补充协议,并不得违反相关法律法规规定。

(2)、本协议自甲乙双方签字(盖章)、勾选之日起生效。

(3)、本协议包括纸质档和电子档,纸质档—式二份,甲乙双方各执一份,均具有同等法律效力。

活动参与者意味着接受并承担本协议的全部义务,未同意者意味着放弃参加此次活动的权利。凡参加这次活动前,必须事先与自己的家属沟通,取得家属同意,同时知晓并同意本免责声明。参加者签名/勾选后,视作其家属也已知晓并同意。

我已认真阅读上述条款,并且同意。

团体参观协议声明

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本人完全同意《中央美术学院美术馆》(以下简称“CAFAM”),愿意将本人参与中央美术学院美术馆公共教育部组织的公益性活动(包括美术馆会员活动)的涉及本人的图像、照片、文字、著作、活动成果(如参与工作坊创作的作品)提交中央美术学院用作发表、出版。中央美术学院可以以电子、网络及其它数字媒体形式公开出版,并同意编入《中国知识资源总库》《中央美术学院资料库》《中央美术学院美术馆资料库》等相关资料、文献、档案机构和平台,在中央美术学院中使用和在互联网上传播,同意按相关“章程”规定享受相关权益。

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第一条

本次活动公平公正、自愿参加与退出、风险与责任自负的原则。但活动有风险,参加者应有必要的风险意识。

第二条

参加本次活动者必须遵守中华人民共和国的相关法律、法规,必须遵循道德和社会公德规范,并应该具备以人为本、团结友爱、互相帮助和助人为乐的良好品质。

第三条

参加本次活动人员应该是成年人(具有完全民事行为能力的人,18周岁以上)未成年人必须在成年人的陪同下参观。

第四条

参加活动者在此次活动期间的人身安全责任自负。鼓励参加者自行购买人身安全保险。活动中一旦出现事故,活动中任何非事故当事人及美术馆将不承担人身事故的任何责任,但有互相援助的义务。参加活动的成员应当积极主动的组织实施救援工作,但对事故本身不承担任何法律责任和经济责任。参加本次活动者的人身安全不负有民事及相关连带责任。

第五条

参加活动者在此次活动期间应主动遵守美术馆活动秩序、维护美术馆场地及展示、展览、馆藏艺术作品及衍生品的安全。活动中一旦因个人原因造成美术馆场地、空间、艺术品、衍生品等受到不同程度的损失、破坏。活动中任何非事故当事人及美术馆将不承担相应的责任与损失,应由参与活动者根据相应的法律条文、组织规定进行协商和赔偿。并追究相应的法律责任和经济责任。

第六条

参与活动者在参与活动时应当在美术馆工作人员及活动导师、教师指导下进行,并正确的使用活动中所涉及到的绘画工具、创作材料及配套设备、设施,若参与者因个人原因在使用相应绘画工具、创作材料及配套设备、设施造成个人受伤、伤害他人及造成相应工具、材料、设备或设施的故障或损坏。参与活动者应当承当相应的全部责任,并主动赔偿相应的经济损失。活动中任何非事故当事人及美术馆将不承担人身事故的任何责任。

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根据《中华人民共和国广告法》、《中华人民共和国民法通则》以及 最高人民法院关于贯彻执行 《中华人民共和国民法通则》若干问题的意见(试行)>的有关规定,为明确肖像许可方(甲方)和使用方(乙方)的权利义务关系,经双方友好协商,甲乙双方就带有甲方肖像的作品的使用达成如下一致协议:

一、 一般约定

(1)、甲方为本协议中的肖像权人,自愿将自己的肖像权许可乙方作符合本协议约定和法律规定的用途。

(2)、乙方中央美术学院美术馆是一所具有标志性、专业性、国际化的现代公共美术馆。中央美术学院美术馆与时代同行,努力塑造一个开放、自由、学术的空间氛围,竭诚与各单位、企业、机构、艺术家和观众进行良好互动。以学院的学术研究为基础,积极策划国际、国内多视角、多领域的展览、论坛及公共教育活动,为美院师生、中外艺术家以及社会公众提供一个交流、学习、展示的平台。作为一家公益性单位,其开展的公共教育活动以学术性和公益性为主。

(3)、乙方为甲方拍摄中央美术学院公共教育部所有公教活动。

二、拍摄内容、使用形式、使用地域范围

(1)、拍摄内容 乙方拍摄的带有甲方肖像的作品内容包括:①中央美术学院美术馆②中央美术学院校园内○3由中央美术学院公共教育部策划或执行的一切活动。

(2)、使用形式 用于中央美术学院图书出版、销售附带光盘及宣传资料。

(3)、使用地域范围

适用地域范围包括国内和国外。

使用肖像的媒介限于不损害甲方肖像权的任何媒介(如杂志、网络等)。

三、肖像权使用期限

永久使用。

四、许可使用费用

带有甲方肖像作品的拍摄费用由乙方承担。

乙方于拍摄完带有甲方肖像的作品无需支付甲方任何费用。

附则

(1)、本协议未尽事宜,经双方友好协商后可作为本协议的补充协议,并不得违反相关法律法规规定。

(2)、本协议自甲乙双方签字(盖章)、勾选之日起生效。

(3)、本协议包括纸质档和电子档,纸质档—式二份,甲乙双方各执一份,均具有同等法律效力。

活动参与者意味着接受并承担本协议的全部义务,未同意者意味着放弃参加此次活动的权利。凡参加这次活动前,必须事先与自己的家属沟通,取得家属同意,同时知晓并同意本免责声明。参加者签名/勾选后,视作其家属也已知晓并同意。

我已认真阅读上述条款,并且同意。

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中央美术学院美术馆出版授权协议书

本人完全同意《中央美术学院美术馆》(以下简称“CAFAM”),愿意将本人参与中央美术学院美术馆公共教育部组织的公益性活动(包括美术馆会员活动)的涉及本人的图像、照片、文字、著作、活动成果(如参与工作坊创作的作品)提交中央美术学院用作发表、出版。中央美术学院可以以电子、网络及其它数字媒体形式公开出版,并同意编入《中国知识资源总库》《中央美术学院资料库》《中央美术学院美术馆资料库》等相关资料、文献、档案机构和平台,在中央美术学院中使用和在互联网上传播,同意按相关“章程”规定享受相关权益。

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第一条

本次活动公平公正、自愿参加与退出、风险与责任自负的原则。但活动有风险,参加者应有必要的风险意识。

第二条

参加本次活动者必须遵守中华人民共和国的相关法律、法规,必须遵循道德和社会公德规范,并应该具备以人为本、团结友爱、互相帮助和助人为乐的良好品质。

第三条

参加本次活动人员应该是成年人(具有完全民事行为能力的人,18周岁以上)未成年人必须在成年人的陪同下参观。

第四条

参加活动者在此次活动期间的人身安全责任自负。鼓励参加者自行购买人身安全保险。活动中一旦出现事故,活动中任何非事故当事人及美术馆将不承担人身事故的任何责任,但有互相援助的义务。参加活动的成员应当积极主动的组织实施救援工作,但对事故本身不承担任何法律责任和经济责任。参加本次活动者的人身安全不负有民事及相关连带责任。

第五条

参加活动者在此次活动期间应主动遵守美术馆活动秩序、维护美术馆场地及展示、展览、馆藏艺术作品及衍生品的安全。活动中一旦因个人原因造成美术馆场地、空间、艺术品、衍生品等受到不同程度的损失、破坏。活动中任何非事故当事人及美术馆将不承担相应的责任与损失,应由参与活动者根据相应的法律条文、组织规定进行协商和赔偿。并追究相应的法律责任和经济责任。

第六条

参与活动者在参与活动时应当在美术馆工作人员及活动导师、教师指导下进行,并正确的使用活动中所涉及到的绘画工具、创作材料及配套设备、设施,若参与者因个人原因在使用相应绘画工具、创作材料及配套设备、设施造成个人受伤、伤害他人及造成相应工具、材料、设备或设施的故障或损坏。参与活动者应当承当相应的全部责任,并主动赔偿相应的经济损失。活动中任何非事故当事人及美术馆将不承担人身事故的任何责任。

中央美术学院美术馆肖像权许可使用协议

根据《中华人民共和国广告法》、《中华人民共和国民法通则》以及 最高人民法院关于贯彻执行 《中华人民共和国民法通则》若干问题的意见(试行)>的有关规定,为明确肖像许可方(甲方)和使用方(乙方)的权利义务关系,经双方友好协商,甲乙双方就带有甲方肖像的作品的使用达成如下一致协议:

一、 一般约定

(1)、甲方为本协议中的肖像权人,自愿将自己的肖像权许可乙方作符合本协议约定和法律规定的用途。

(2)、乙方中央美术学院美术馆是一所具有标志性、专业性、国际化的现代公共美术馆。中央美术学院美术馆与时代同行,努力塑造一个开放、自由、学术的空间氛围,竭诚与各单位、企业、机构、艺术家和观众进行良好互动。以学院的学术研究为基础,积极策划国际、国内多视角、多领域的展览、论坛及公共教育活动,为美院师生、中外艺术家以及社会公众提供一个交流、学习、展示的平台。作为一家公益性单位,其开展的公共教育活动以学术性和公益性为主。

(3)、乙方为甲方拍摄中央美术学院公共教育部所有公教活动。

二、拍摄内容、使用形式、使用地域范围

(1)、拍摄内容 乙方拍摄的带有甲方肖像的作品内容包括:①中央美术学院美术馆②中央美术学院校园内○3由中央美术学院公共教育部策划或执行的一切活动。

(2)、使用形式 用于中央美术学院图书出版、销售附带光盘及宣传资料。

(3)、使用地域范围

适用地域范围包括国内和国外。

使用肖像的媒介限于不损害甲方肖像权的任何媒介(如杂志、网络等)。

三、肖像权使用期限

永久使用。

四、许可使用费用

带有甲方肖像作品的拍摄费用由乙方承担。

乙方于拍摄完带有甲方肖像的作品无需支付甲方任何费用。

附则

(1)、本协议未尽事宜,经双方友好协商后可作为本协议的补充协议,并不得违反相关法律法规规定。

(2)、本协议自甲乙双方签字(盖章)、勾选之日起生效。

(3)、本协议包括纸质档和电子档,纸质档—式二份,甲乙双方各执一份,均具有同等法律效力。

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